La claridad de ENOVIA V6 facilita el diseño y el testeo de los desarrollos realizados con CATIA PLM Express y SIMULIA.
Dassault Systèmes, líder mundial en 3D y gestión de ciclo de vida de producto (PLM en inglés), y la Universidad Nacional de La Plata (UNLP) han revelado sus contribuciones para el proyecto SAC- D/ AQUARIUS, un satélite para la predicción precisa de cambios climáticos. La Universidad usó las soluciones de Dassault Systèmes para diseñar, desarrollar, testear y administrar dos de los siete instrumentos principales que forman parte del satélite.
SAC- D es el resultado de una asociación internacional entre la Administración Nacional de Aeronáutica y del Espacio (NASA), el Centro de Vuelo Espacial Goddard (GSFC), el Centro de Propulsión a Chorro (JPL) y la Comisión Nacional de Actividades Espaciales (CONAE).
Los estudiantes de la Facultad de Ingeniería y del Departamento de Aeronáutica usaron ENOVIA V6 para la colaboración “online” y la gestión del proyecto, CATIA PLM Express para el diseño de los módulos estructurales y SIMULIA para los cálculos estructurales del satélite. Los programas de Dassault Systèmes ayudaron a simplificar las complejas tareas de rastreo, revisión y aprobación de diseño, documentación y cambios en los planos.
“Es la primera oportunidad en que NASA subcontrata a CONAE y UNLP para la fabricación de componentes científicos y, gracias a nuestro entrenamiento y experiencia en 3D PLM, fuimos capaces de participar en todas las etapas de diseño, producción y testeo de esos dos componentes”, afirma Alejandro Patanella, director de la Facultad de Ingeniería y del Departamento de Aeronáutica de UNLP.
Los dos instrumentos desarrollados y testeados incluyen un radiómetro de microondas (MWR) para la medición de la velocidad del viento y la concentración de hielo y una cámara infrarroja (NIRST) para la identificación de zonas calientes, como incendios o volcanes. Adicionalmente, CONAE y UNLP estuvieron a cargo del testeo mecánico y la validación de la mayoría de los instrumentos exteriores de la plataforma del SAC- D.
A través de ENOVIA V6, los objetivos de diseño y producción fueron alcanzados satisfactoriamente por los consistentes procesos de rastreo de información y documentación garantizados por la plataforma “online”, segura y colaborativa. Otros exitosos logros fueron la protección de la propiedad intelectual y el control de acceso a los trabajos de diseño, así como la implementación de un sistema de gestión del proceso comercial para la captura y la reutilización de conocimiento para asegurar procesos unificados y estándares.
Muy claro el informe. Felicito a la empresa.
ResponderEliminarExcelente!
ResponderEliminarMuy buen Informe!
ResponderEliminarmuy bueno!!
ResponderEliminarmuy bueno este informe! excelente!
ResponderEliminarmuy buen informe, claro e interesante!
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